作者：李小森

学位名称：硕士

出处：北京理工大学法学院 2014

关键词：实物出资；适用条件；程序；法律责任

摘要：实物出资是指以货币以外的有体物进行出资。实物出资具有出资额不直观且不恒定、出资程序复杂的特点，所以需要完备的制度对实物出资加以规制。我国针对实物出资的立法相对全面，但一些具体的制度仍需完善。 本文除绪论共分四部分。 第一部分实物出资概述。从实物出资的概念入手，明确实物即有体物，包括动产与 ...

作者：符媛英

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：成像光学；公差分析；投影光刻物镜；补偿器；波像差；公差灵敏度

摘要：为保证投影光刻物镜的实际成像性能，同时降低制造成本，为理想设计结果进行公差分析、选择合理的像质补偿器具有重要意义。现有的补偿器选择方法，通过分析部分三阶Zernike系数对公差的灵敏度选择补偿器，灵敏度评价指标多、计算量大、补偿器选择过程繁杂。且仅以波像差均方根（RMS）值来限制公差和评估系统性能， ...

作者：高锐

学位名称：硕士

出处：北京理工大学法学院 2014

关键词：董事；勤勉义务；商业判断规则

摘要：董事的勤勉义务，在英美法中也被称为“注意义务”，在大陆法系一般被称为“善良管理人的注意义务”，它要求董事机智、慎重、勤勉尽责地管理公司事务，要求董事在执行公司职务时能为公司利益最大化考虑。本文运用规范分析方法探讨董事勤勉义务的含义、法理基础及判断标准等内容。在阅读大量资料的基础上，采用对国内外各种学 ...

作者：汪海

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：剪切干涉仪；正交位相光栅；波像差；扩展光源；装调；系统误差；波面重构

摘要：针对氟化氩浸没式光刻物镜波像差的现场测量，本文研究了一种超大数值孔径(Numerical aperture，简写NA)二维横向剪切干涉检测技术，称为正交位相光栅横向剪切干涉仪，简称CPGLSI(Cross Phase Grating Lateral Shearing Interferometer)。 ...

作者：李磊

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：光学测量；偏振检测；大视场角波片；误差分析与优化；斯托克斯参量；穆勒矩阵

摘要：随着投影物镜数值孔径（numerical aperture，简写NA）的增加，光刻曝光系统引入偏振照明进行成像。现有的成像理论已经预言了光偏振态和投影物镜偏振像差与成像图形对比度之间的关系。但是需要进一步研究偏振态和偏振像差的检测技术和系统，实现合理的控制偏振态和偏振像差，从而保证光刻机的性能指标。 ...

作者：白泽君

学位名称：硕士

出处：北京理工大学法学院 2014

关键词：有限责任公司；股东资格；认定标准；证据效力；隐名出资

摘要：股东资格是股东享有并行使股东权利和履行相应义务的前提和基础。股东资格认定是确认争议主体股东身份的法律行为，在解决多数有限责任公司纠纷的过程中必不可少。在我国公司相关立法中，关于有限责任公司股东资格的规定较为分散，而且一些具体规定尚欠科学。本文除绪论和结语外，共分为四个部分。第一章，有限责任公司股东资 ...

作者：董娟

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：偏振检测；宽角1/4波片；装调误差；加工误差；斯托克斯参量；穆勒矩阵

摘要：随着光刻系统数值孔径的持续增大、曝光图形特征尺寸CD的日趋减小，光的偏振特性对光刻性能的影响越来越大。对偏振检测系统的测量和分析有助于光刻模拟仿真，优化光刻机系统设计，最终提高光刻成像质量。到目前为止，国外研究人员提出了十多种光刻系统偏振测量技术。每种偏振测量技术的实现都离不开检测器件，而有关这些器 ...

作者：张梅

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：相移点衍射干涉仪；装调误差；CCD非均匀性；物镜装调

摘要：相移点衍射干涉仪作为高分辨率光学系统波像差在线检测的关键设备，投影物镜的精密装调直接影响着系统成像质量，进而影响测量结果的准确性与可靠性，因此引入精密的装调技术辅助物镜的高精度装调是非常有必要的。同时，探测器性能(CCD非均匀性)造成的输出结果失真等误差因素会影响相移点衍射干涉仪的成像质量，因此在进 ...

作者：杨亮

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：光刻；厚掩模；严格耦合波法；线/空图形；接触孔；偏振效应

摘要：当浸没式氟化氩（Argon Fluoride, ArF）光刻发展到45nm及以下技术节点时，掩模图形的特征尺寸（Critical Dimension，CDm，下标m表示CD以掩模上图形的尺寸表示）进入亚波长范围，掩模吸收层的厚度达到波长量级，掩模导致的偏振效应越来越显著。此时，必须采用严格的电磁场模 ...

作者：刘昊

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：矢量光刻成像模型；快速算法；HHA成像理论；光源差异采样；稀疏矩阵；快速傅里叶变换

摘要：随着光刻技术的进步，传统的标量光刻成像模型不能继续满足光刻仿真的精度需求，因此矢量光刻成像模型得到广泛发展。但是目前建立的矢量光刻成像模型计算效率普遍较低，限制了其在计算光刻和逆向光刻领域中的应用，因此有必要提出相应的快速算法，在保证矢量光刻成像模型仿真精度的同时进一步提高矢量光刻成像模型的计算效率 ...