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李艳秋

  • 职称:教授
  • 研究方向:光学物理、光学成像、光学设计和光电检测,包括:先进光刻成像及分辨率增强技术,偏振成像和光谱探测,微纳光学及图像处理等。
  • 所属院系:光电学院  
  • 成果数量:278条,属于本单位的个人成果278条
  • 学术称号:长江学者
  • 简介: 李艳秋:女,1962年9月出生,博士,北京理工大学光电学院教授,博士生导师,校信息学部委员,曾任校学术委员会委员,2016年受聘北京理工大学首批专聘教授。所在学科是光学工程,现任现代光学设计与工艺、光刻技术及光电精密仪器工程学科方向责任教授。2006年受聘教育部“长江学者奖励计划”特聘教授,2001年受聘中国科学院院“引进国外杰出人才”奖...

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作者: 李建慧,郑猛,张雪冰,李艳秋 (北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室;北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室;北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室;北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室)

出处: 激光与光电子学进展 2016 第2期 P021202

关键词: 测量  Mueller 矩阵成像偏振仪  标定  旋转波片法  傅里叶分析法

摘要: Mueller 矩阵成像偏振仪是测量材料和器件偏振特性的重要仪器,也是测量浸没光刻机偏振像差的检测仪器,该偏振仪由偏振态产生器和偏振态分析器组成。其组成中的λ/4 波片相位延迟量误差及其快轴方位角误差与偏振片透光轴的方位角误差是影响Mueller 矩阵成像偏振仪测量精度的主要误差源。通过对本课题组研 ...

发明人: 马旭,陈譞博,汪杰,李艳秋

申请人: 北京理工大学

申请号: 201510354242.5

申请日期: 2015.06.24

摘要: 本发明提供一种极紫外光刻光源-掩模优化方法,本方法分别应用参数化和像素化光源,并将掩模主体图形和辅助图形分别构造为若干单边尺寸大于或等于预定阈值的基本模块的叠加,将优化目标函数构造为成像保真度函数与光源及掩模罚函数之和;之后本方法基于标量成像模型,采用共轭梯度法和改进的共轭梯度法对极紫外光刻光源及掩 ...

发明人: 李艳秋,张雪冰

申请人: 北京理工大学

申请号: 201510011686.9

申请日期: 2015.01.09

摘要: 本发明提供一种基于旋转波片法的斯托克斯偏振仪误差标定和补偿方法,具体步骤为:利用偏振态产生器PSG产生水平线偏振光,作为标准参考光;利用待标定的斯托克斯偏振仪对标准参考光进行N次测量,获得N个光强值;对获得的N个光强值进行傅里叶分析,得到相应的各项傅里叶系数;利用器件参数误差与各项傅里叶系数之间的关 ...

发明人: 马旭,高杰,陈譞博,董立松,李艳秋

申请人: 北京理工大学

申请号: 201510069623.9

申请日期: 2015.02.10

摘要: 本发明一种基于样本库和数据拟合的快速三维掩模衍射近场计算方法的具体过程为:建立三维掩模衍射矩阵样本库,并计算对应于凸角、凹角和边缘区域的衍射近场数据修正因子;对于一个需要计算其衍射近场的三维掩模,确定掩模上的观测点,并为每个观测点分配一个子区域;以每个观测点为中心,在其周围掩模区域内取一个正方形区域 ...

发明人: 马旭,汪杰,陈譞博,李艳秋

申请人: 北京理工大学

申请号: 201510046751.1

申请日期: 2015.01.29

摘要: 本发明提供一种极紫外光刻掩模优化方法,本方法将掩模主体图形和辅助图形分别构造为若干单边尺寸大于或等于预定阈值的基本模块的叠加,将优化目标函数构造为成像保真度函数与掩模罚函数之和。之后本方法基于标量成像模型,采用共轭梯度法和改进的共轭梯度法对极紫外光刻掩模的主体图形和辅助图形进行同步优化,且在每次迭代 ...

发明人: 李艳秋,刘晓林,刘克

申请人: 北京理工大学

申请号: 201510202472.X

申请日期: 2015.04.24

摘要: 本发明提供一种利用补偿面的光学系统像差补偿方法,具体步骤为:步骤一、在光学设计阶段,预设至少一个补偿面;步骤二、在系统加工阶段,对步骤一所设计的光学系统进行加工,其中补偿面不进行精细抛光;步骤三、仿真分析出光学系统的波像差WSD(ρ,θ);步骤四、根据所述波像差WSD(ρ,θ),计算补偿面的面形函数 ...

作者: Liu, Xiaolin(1); Li, Yanqiu(1); Liu, Ke(1)

出处: Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering Harbin, China 2015

关键词: Aberrations - Clocks - Errors - Lenses - Lithography - Optical systems - Surface topography - Wavefronts

摘要: Figure-errors as an optical manufacture error would degrade the performance of optical system. Optical componentsclocking around optical axis is a cla ...

作者: Ma, Xu(1); Gao, Jie(1); Chen, Xuanbo(1); Dong, Lisong(1); Li, Yanqiu(1)

出处: Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering San Jose, CA, United states 2015

作者: Liu, Xiaolin(1); Li, Yanqiu(1); Liu, Ke(1)

出处: Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering Beijing, China 2015

作者: Liu, Xiaolin; Li, Yanqiu; Liu, Ke

出处: SELECTED PAPERS OF THE PHOTOELECTRONIC TECHNOLOGY COMMITTEE CONFERENCES PEOPLES R CHINA 2015

关键词: Figure error; Surface irregularity; Aberration compensation; Lithography

李艳秋教授简介

李艳秋:女,1962年9月出生,博士,北京理工大学光电学院教授,博士生导师,校信息学部委员,曾任校学术委员会委员,2016年受聘北京理工大学首批专聘教授。所在学科是光学工程,现任现代光学设计与工艺、光刻技术及光电精密仪器工程学科方向责任教授。2006年受聘教育部“长江学者奖励计划”特聘教授,2001年受聘中国科学院院“引进国外杰出人才”奖励计划(百人计划)研究员。目前,主讲研究生学位必修课《高等光学》、研究生选修课《学科交叉中的光学技术与仪器》、本科生必修课《半导体物理》。曾任校学术委员会委员;曾任中国科学院研究生院教授、中科院电工所博士生导师、研究部主任、所学术委员会委员;曾任哈尔滨工业大学助教、讲师、副教授;曾任日本理化学研究所( RIKEN)Researcher of Frontier Project、日本姬路工业大学高端产业技术研究所客座副教授、日本Nikon公司Senior Engineer。

【研究方向】:光学物理、光学成像、光学设计和光电检测,包括:先进光刻成像及分辨率增强技术,偏振成像和光谱探测,微纳光学及图像处理等。

【应用领域】:航空航天、半导体制造、生物医学、信息、环境和能源等领域。

【科研项目】:34年职业生涯中,主持并负责(含已经完成)的国家科技重大(02)专项课题和子课题、国家重大科研仪器项目、国家自然基金重点项目和面上项目、国家“863”计划项目(课题)、“863”计划重大项目(子课题)、国家“973”重大基础研究项目子课题(任务)、人才资助计划等15项;主持并负责的国内外企业合作项目4项;参与完成国内外项目10余项, 包括:日本Nikon、NEDO &ASET极紫外光刻项目、国家科技重大(02)专项课题、863项目(副组长)、国家自然基金重点和面上项目、中国科学院知识创新工程项目(副组长)、人才项目等。

【学术成果】:34年教学科研过程中,在光折变性光学、光学物理、技术光学、光学设计、光刻模拟仿真、光电传感和检测技术与系统研制方面,取得较好的成绩。发表学术论文近200余篇,其中被SCI和EI收录140余篇,申请国内外申请发明专利114项(含2项国际专利,已授权99项),光刻仿真软件著作权11项。参编中国电气工程大典一章(MEMS技术)、篇主编,论文参编中国科技经典文库。近5年,创新了“全光路三维矢量成像及分辨率增强技术(RET)”,并实现多项矢量分辨率增强技术(V-RET),完成了V-RET需要的光波调控微纳器件及光学系统,受邀撰写SPIE review Article。率先突破光刻设备-掩模-工艺协同设计优化技术,开发自主设计仿真软件,并建立国内首个光刻模拟研究平台及数据库支撑我国45-7nm技术节点IC研发和制造。首次发表了组合倍率高分辨成像物镜分组设计方法,研究微纳光学元件和自由曲面对光波的调控,设计实现具有高能量利用率、高性能、多功能的照明系统;突破高分辨成像系统的像差检测及控制技术,自主设计研制了实验型光刻系统、系统标量和矢量像差在线检测所需的相移点衍射干涉仪/交叉剪切干涉仪/哈特曼波面传感系统/Stokes-Muller成像偏振仪/等,获纳米和亚纳米级检测精度。这些成果突破了国外技术封锁,支撑90-5nm分辨光刻成像及照明系统协同设计技术。

【社会兼职】:2008年至今受聘担任国家科技重大(02)专项总体组特聘光刻技术专家,参与国家中长期科技发展规划重大专项实施方案编写、项目论证、项目评审和实施评估,入选国际光学工程学会(SPIE)和美国光学学会(OSA)高级会员。现任国家微机电标准化委员会第1、2届委员,中国仪器仪表学会光机电技术与系统集成分会常务理事、北京光学学会理事、中国光学学会高级会员,上海微电子装备有限公司暨国家光刻技术研究中心咨询专家,国际期刊 Advanced Optical Technologies 编委,第六-七届传感技术学报副主编,激光与光电子学进展编委,北京市第十一届党代表。曾任国家自然基金委信息学部十一、十二届评审专家组成员,Guest Editor of IEEE Sensor Journal,《光学技术》期刊编辑委员会第五届委员会副主任委员,光学技术专业委员会第五届委员会副主任委员,第一届中国博士后科学基金评审组专家、微细加工技术期刊编委等。

【其他荣誉】:曾获北京理工大学校、院多个年度科研工作先进个人或集体荣誉和奖励,曾获校师德标兵、杰出女教授(女教授协会评选)等荣誉,曾获中科院电工所年度突出贡献奖,曾获哈尔滨工业大学优秀教学奖和“三八“红旗手等荣誉,入选SPIE Women in Optics 2013-2014年年历。