作者：刘晓林

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2015

关键词：光学光刻；投影物镜；光学设计；偏振像差；像差补偿；面形误差

摘要：超大数值孔径(Numerical Aperture,简称NA)浸没式氟化氩(Argon Fluoride,简称ArF)光刻机,结合多种新型分辨率增强技术(Resolution Enhancement Technology,简称RET)可实现45-14nm技术节点集成电路制造,光刻机照明系统和物镜系统 ...

作者：魏立冬

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2015

关键词：光刻；照明系统；光学设计；微反射镜阵列；复眼阵列

摘要：ArF光刻照明系统是大规模集成电路光刻曝光系统的重要组成部分，必须产生满足分辨率增强技术(Resolution Enhancement Technique，简称RET)要求的照明光源并实现掩模面均匀照明。随着光刻技术发展到45nm及以下节点，光刻照明系统设计面临着越来越多的挑战。本文面向国家科技重大 ...

作者：张志鹏

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2015

关键词：光刻机；光束Stokes参量；Mueller矩阵；多误差综合分析；优化

摘要：偏振仪有着非常广泛的应用，例如检测光束的偏振态、样品Mueller矩阵等。对偏振仪进行误差分析、优化检测系统中的元件参数及测量方法，对提高仪器的检测精度有着重要的意义。光刻系统中引入偏振照明进行成像，因此需要检测光束偏振态和投影物镜偏振像差对光刻系统的影响，以实现合理的控制，从而保证光刻机的性能。本 ...

作者：肖雷

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2015

关键词：深紫外光刻；光学设计；照明系统；干涉散斑；Chirp式复眼

摘要：深紫外光刻照明系统作为深紫外光刻机的重要组成部分，其主要作用是对掩模面特定区域进行均匀的照明，并产生满足分辨率增强技术要求的照明光源。现在产业化的深紫外光刻照明系统使用常规复眼阵列作为匀光单元，但因其周期性结构的特点，会在掩模面上产生干涉散斑，严重影响照明均匀性。目前，在深紫外光刻照明系统中消除干涉 ...

作者：韩春营

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2015

关键词：浸没式光刻；分辨率增强技术；光源-掩模优化；光瞳波前优化；工艺窗口

摘要：光刻分辨率增强技术（Resolution Enhancement Technique，简称RET）是推动超大规模集成电路（Integratd Circuit，简称IC）制造进入45-14nm技术节点的核心技术。传统的RET包括离轴照明（Off-Axis Illumination，简称OAI）、相移掩 ...

作者：梁晓斌

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2015

关键词：波前传感；亚波长光栅；时域有限差分；耦合波

摘要：波前传感是测量光波波面相位分布的技术,已广泛应用于自适应光学、视觉光学、激光光束质量诊断、光学元件和光学系统检测等领域,朝着高精度、大动态范围、高采样率、实时、轻量化等方向发展。近年来,随着电子束刻蚀、等离子溅射等微结构加工技术的进步,亚波长器件加工工艺日趋成熟,在光学成像、滤波、传感等领域得到了广 ...

作者：梁欣丽

学位名称：硕士

出处：北京理工大学光电学院 2015

关键词：光学系统设计；波纹板照明系统；收集系统；极紫外光刻

摘要：极紫外光刻技术是具有很好发展前景的下一代光刻技术。经过二十多年的发展，极紫外光刻技术正日益向产业化迈进，但作为产业化量产光刻工具，极紫外光刻技术面临着巨大的挑战：光源输出功率不足。同时，光源收集系统和极紫外光刻曝光系统引入巨大的光能损失，导致光源的能量利用率非常低，严重制约了该系统的研制与发展。为了 ...

作者：郭学佳

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：光刻；偏振；偏振像差；光源掩模优化；光刻工艺；协同优化；图形保真

摘要：图形保真是集成电路制造对光刻的基本要求，随着光刻技术发展到45nm及以下节点，偏振光刻图形保真技术面临越来越多的挑战。本文面向45nm节点高数值孔径（NA）浸没式光刻，系统地研究偏振效应以及关键因素对图形保真的影响，探讨各因素之间对图形保真的相互补偿作用，并基于矢量光刻成像理论，研究提高图形保真度的 ...

作者：刘菲

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：极紫外光刻；光学设计；照明设计；反射；非球面；几何光学；逆向设计

摘要：极紫外光刻技术是具有很好发展前景的下一代光刻技术。投影曝光系统是极紫外光刻系统的核心组成部分。极紫外光刻投影物镜和照明系统设计是极紫外光刻技术研究的重要内容之一，对我国的半导体制造设备的研制具有重要意义和作用。本文在极紫外光刻投影物镜的初始结构设计方法、非球面结构成像系统优化方法、极紫外光刻照明系统 ...

作者：董立松

学位名称：博士

出处：北京理工大学光电学院 2014

关键词：光学光刻；矢量成像理论；分辨率增强技术；波像差；偏振像差；在线检测；OPC；SMO

摘要：目前，浸没式氟化氩（Argon Fluoride，简称ArF）光刻技术是45nm及以下节点极大规模集成电路制造的主要手段。随着集成电路版图上特征尺寸（CriticalDimension，简称CD）不断减小，集成电路制造对浸没式光刻仿真中成像理论的精度、光刻投影物镜像差的在线检测以及光刻成像分辨率的要 ...