作者:Liu Ke,Li Yanqiu (Key Laboratory of Photoelectronic Imaging Technology and System Ministry of Education of China School of Optoelectronics Beijing Institute of Technology Beijing 100081 China)
出处:中国激光 2009
关键词:Extreme;ultraviolet;lithography
摘要:The at-wavelength interferometry of projection optics, which has important research significance and practical value in integration of lithography too ...
发明人:李艳秋,马翔,刘丽辉,刘克
申请日期:2023.11.17
摘要:本发明公开了快速高精度Stokes‑Mueller成像仪及其校准方法,偏振态产生器由一块偏振片和两个方位角可调整的液晶相位延迟器组成,偏振态分析器由分束镜和两个偏振探测器及一个液晶相位延迟器组成,使得Stokes‑Mueller成像仪检测时无需机械运动,偏振态分析器可以实现一次成像即可检测全部Sto ...
发明人:刘克,韩玺廷,李艳秋
申请日期:2023.11.03
摘要:本发明公开了测量高数值孔径球面波的横向剪切干涉仪校准方法,通过对高数值孔径球面波入射横向剪切干涉仪的几何光路进行理论分析,利用推导出的剪切波面系统误差公式定量计算剪切波面系统误差的大小;本发明方法通过在两束相干光的剪切波面中减去系统误差波面,然后对消除剪切波面系统误差后的剪切波面进行波前重构,得到校 ...
发明人:刘克,王涛,李艳秋
申请日期:2023.11.13
摘要:本发明公开了补偿范围可调的通用化非球面非零位干涉检测装置及方法,所设计的补偿器为球面形透镜,成本低,加工简单;可通过改变可调补偿器中两透镜的距离以改变补偿器的补偿范围,具有更灵活的检测方式和更广泛的应用领域;所用入射光为平行光,且可调补偿器中的透镜有一面为平面,检测光路的对准及设计简单;相较于其他球 ...
作者:周远1;,李艳秋2; (1中国科学院电工研究所;2北京理工大学)
出处:光学学报 2008
关键词:光学光刻;衬底反射率;底层抗反膜(BARC);高数值孔径
摘要:在高数值孔径光学光刻中,成像光入射角分布在较大范围内,传统的单底层抗反膜不足以控制抗蚀剂-衬底界面反射率(衬底反射率)。考虑照明光源形状以及掩模的影响,提出了一种新的双层底层抗反膜优化方法,依据各级衍射光光强求衬底反射率的最小权重平均值来配置膜层。针对传统掩模、衰减相移掩模以及交替相移掩模的情况,用 ...
作者:Xinyi Zhang;Yuqing Chen;Yanbei Nan;Yanqiu Li
出处:2023 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS) 2023
关键词:Extreme ultraviolet lithography;Optical design;Ultraviolet sources;Simulation;Conferences;Energy resolution;Lighting
摘要:The illumination system of extreme ultraviolet lithography (EUVL) is the core of extreme ultraviolet lithography. The illumination system is responsib ...
发明人:李艳秋,黄炜晨,刘克
申请日期:2024.03.19
摘要:本发明提出了一种应用于曲线掩膜的优化方法,该方法通过将二维掩膜图案的边缘信息转换为一维质心角函数,实现了在不降低光刻胶中成像图案保真度的情况下,有效的减少了存储的数据量;并且,采样对质心角函数进行采样的方法能给有效的降低设定边缘控制点算法的复杂程度并有效的增加了选取流程的合理性和简洁性,同时,利用质 ...
发明人:李艳秋,陈雨情,刘丽辉,刘克
申请日期:2023.12.26
摘要:本发明公开了一种高效匹配计算光刻的深紫外光刻照明光源转换方法和系统。当照明光源的形状和强度分布改变时,本发明无需重新计算各个微反射镜的倾斜角,而从当前照明光源出发,通过调整少量的微反射镜的倾斜角即可实现新的目标光源,提高了照明模式之间的转换效率,同时也提高了光刻机的工作效率。本发明能够准确地计算出匹 ...
发明人:李艳秋,钟慧,刘克
申请日期:2023.12.27
摘要:本发明公开一种高精度、大动态范围的横向剪切干涉像差检测方法及装置;通过对干涉光强分布及调制度函数推导,分析了泽尼克像差、剪切率对调制度函数的影响,定量得到了不同剪切率时任意多波前横向剪切干涉仪的像差测量范围的对应关系;根据对应关系,在多波前横向剪切干涉系统进行像差检测时高效、精确地确定了仪器剪切率的 ...
发明人:刘克,刘书豪,李艳秋,钟慧
申请日期:2023.12.15
摘要:本发明公开了一种分域多方向斜率曲率混合波前重构方法,根据引入角度,通过分域相消思路划分任意大小子区域从而引入对角方向斜率曲率信息的重构思路,实现用两组方程就引入重构点周围水平,垂直,对角和反对角方向上斜率曲率信息,同等信息引入量下更快速重构的算法流程,本发明能够在实时性较好的基础上,提高波前重构精度 ...